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  抛光液和抛光垫是CMP抛光工艺的中心资料。抛光液和抛光垫是CMP工艺的两大要害要素，二者皆归于易耗品，且价值量高，二者别离占有抛光资料本钱的49%和33%，其他抛光资料还包含抛光头、研磨盘、检测设备、整理洗刷设备等。

  就商场规模而言，依据Mordor Intelligence数据，全球抛光液商场规模自2018年开端上升，2020年达13.4亿美元，获益于下流晶圆需求上升，我国抛光液未来商场开展的潜力宽广。

  华经工业研究院对我国抛光液职业开展现状、职业上下流工业链、竞赛格式及重点企业等进行了深化剖析，最大极限地下降企业出资危险与运营本钱，提高公司竞赛力；并运用多种数据剖析技能，对职业开展的新趋势进行猜测，以便企业能及时抢占商场先机；更多具体内容，请重视华经工业研究院出书的《2022-2027年我国抛光液商场全景评价及出资规划主张陈述》。

  【陈述标题】2022-2027年我国抛光液商场全景评价及出资规划主张陈述